镓铋合金 金属合金靶材 Ga...
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求...
氧化镓靶材 三氧化二镓靶材 ...
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铁钴镍靶材 FeCoNi合金...
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氧化铁靶材 Fe2O3 Ta...
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氧化铁靶材 三氧化二铁靶材 ...
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高纯铁靶材 高纯铁颗粒 金属...
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铜锌锡硫靶材 CZTS Ta...
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氧化铜靶材 氧化亚铜靶材 C...
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高纯铜靶材 高纯铜颗粒 铜垫...
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氧化铬靶材 三氧化二铬靶材 ...
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高纯铬靶材 高纯铬颗粒 金属...
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高纯钴靶材 高纯钴颗粒 金属...
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二氧化铈靶材 氟化铈颗粒 C...
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氟化铈靶材 氟化铈颗粒 Ce...
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高纯铈靶材 铈块 稀土金属溅...
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高纯石墨靶材 碳靶材 石墨坩...
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氮化硼靶材 高纯硼靶材 BN...
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氧化铋靶材 三氧化二铋靶材 ...
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高纯铋靶材 高纯铋颗粒 金属...
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高纯硼靶材 硼颗粒 B Ta...
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