高纯钐块 钐靶材 Sm 99...
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求...
高纯镨块 镨靶材 Pr 99...
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高纯钯片 钯靶材 Pd 99...
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求...
高纯钯靶材 钯颗粒 Pd片
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求...
高纯镍颗粒 镍蒸发颗粒 Ni...
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求...
铌颗粒 高纯铌靶材 Nb 9...
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高纯钼颗粒 Mo99.95%...
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高纯铪颗粒 Hf Pelle...
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高纯铪颗粒 高纯铪靶材 Hf...
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