金属钽靶材 金属钽片 高纯钽...
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求...
SrTiO3靶材 钛酸锶靶...
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二氧化锡靶材 SnO2颗粒
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高纯锡靶材 高纯锡片 锡颗粒
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高纯硅靶材 硅颗粒 高纯硅片
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高纯硒靶材 硒靶 Se Ta...
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高纯铋靶材 Sb靶材 金属溅...
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高纯铂靶材 Pt Targe...
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高纯铑靶材 铑靶 Rh Ta...
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金属镍靶材 高纯镍靶 Ni ...
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高纯铌靶材 铌靶 Nb99....
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高纯钼靶材 Mo靶材 钼颗粒
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锰镓合金靶材 锰合金溅射靶材...
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高纯锰靶材 Mn靶材 氧化锰...
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高纯镁靶材 Mg99.95%...
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铟锡合金靶材 In-Sn T...
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铟锡合金靶材 In-Sn T...
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高纯铟片 铟箔片 高纯铟颗粒...
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高纯铟靶材 铟靶 In Ta...
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锗锑碲合金溅射靶材 GST ...
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