金属钽靶材 金属钽片 高纯钽...
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求...
SrTiO3靶材 钛酸锶靶...
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钛酸锶靶材 SrTiO3靶材
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二氧化锡靶材 SnO2颗粒
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二氧化锡靶材 氧化锡颗粒 S...
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二氧化锡靶材 氧化锡颗粒 S...
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高纯锡靶材 高纯锡片 锡颗粒
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高纯钐块 钐靶材 Sm 99...
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硅锗合金溅射靶材 SiGe靶...
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硅锗合金靶材 SiGe靶材
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二氧化硅靶材 SiO2靶材 ...
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碳化硅靶材 SiC Targ...
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碳化硅靶材 SiC Targ...
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氮化硅溅射靶材 Si3N4靶...
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氮化硅靶材 Si3N4靶材 ...
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高纯硅靶材 硅颗粒 高纯硅片
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高纯硒靶材 硒靶 Se Ta...
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氧化钪靶材 高纯钪靶材 Sc...
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碲化铋靶材 Sb2Te3 T...
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高纯铋靶材 Sb靶材 金属溅...
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