高纯镧块 稀土金属块材 LA
一、功能介绍及图片磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求...
高纯铂靶材 Pt Targe...
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高纯铑靶材 铑靶 Rh Ta...
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高纯镨块 镨靶材 Pr 99...
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高纯钯片 钯靶材 Pd 99...
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高纯钯靶材 钯颗粒 Pd片
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一氧化镍颗粒 NiO颗粒 氧...
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高纯氧化镍靶材 NiO靶材 ...
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镍铁合金靶材 Ni-Fe 金...
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高纯镍颗粒 镍蒸发颗粒 Ni...
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金属镍靶材 高纯镍靶 Ni ...
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高纯钕块 稀土金属块材 Nd...
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高纯铌片 铌箔片 高纯铌颗粒
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铌颗粒 高纯铌靶材 Nb 9...
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高纯铌靶材 铌靶 Nb99....
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钼蒸发舟 高纯钼舟 钨舟31...
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三氧化钼颗粒 氧化钼 MoO...
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高纯钼棒 Mo棒 金属钼颗粒...
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高纯钼颗粒 Mo99.95%...
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高纯钼靶材 Mo靶材 钼颗粒
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