一、真空气氛烧结炉概述本系列产品，使用硅碳棒为加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料...

一、升降真空炉用途真空气氛炉广泛应用于科研单位、高等院校、工矿企业等单位及冶金、化工、航空航天、航海、核能动力、机械、电子、轻工、橡塑、医药、玻璃、陶瓷、水泥、建材等领域。二、升降真空炉构造电气部分...

一、真空炉用途：主要用于大专院校，科研单位，厂矿企业实验室。二、真空炉技术参数：1、额定温度：温度1250℃长期工作温度1200℃2、额定功率：12KW3、额定电压：380/220V4、相数：二相5...

一、真空热处理炉用途真空炉热处理适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等...

一、真空退火炉用途真空退火炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电...

一、小型热处理真空炉用途、小型热处理真空炉可供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件淬火、退火、回火等热处理加热用，高温炉还可作金属、陶瓷的烧结、溶解、分析等高温加热用。二、、小型热...