旋转阴极
旋转阴极靶特点
1、靶材利用率高，可达 90%。同时也意味着更长的运行时间。
2、溅射速率高（通常是平面阴极的 2‐3 倍，具体视靶材种类而定） 。
3、有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。可以消除平面靶较易形成的再沉积区，这些被污染的靶面，极易产生掉渣然后落到玻璃基板上。同样这些地方很容易产生打弧，打弧又造成了更多掉渣和大颗粒的形成。所以旋转阴极消除了再沉积区，从而保证了镀膜工艺的长期稳定性。
4、无需“烧靶” ，可以节省靶材消耗和烧靶时间。
5<b快速便捷的换靶操作，在某些设计简捷的旋转阴极上可以实现,如美国SCI 公司等。这对配备多个旋转阴极的镀膜生产线特别有意义，节省时间意味着产能的提升。
6 低熔点靶材亦能使用高功率溅射（包括所有材料） 。因为靶材旋转，所以靶面没有一直处于等离子体区内，使溅射速率得以提高。
7 旋转靶材比平面靶材更加昂贵，但其极高的靶材利用率使得旋转靶的性价比更好。
设计图纸
旋转阴极靶的实际应用
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