新型抗反射导电膜磁控溅射镀膜生产线

HD-JCL-Z1400B

    抗反射导电膜连续磁控溅射生产线已获得软件著作权和设备控制系统两项专利，它共设计有十五个真空腔体，其中进口室一个、出口室一个、进口缓冲室一个、出口缓冲室一个、进口传送室一个、出口传送室一个和传送室两个；溅射镀膜室七个，每个溅射镀膜室可以同时安装四个阴极；高真空室采用插板阀隔离，通过改变气氛隔离效果可以实现多功能镀膜；基片架运行轨道采用磁导向传动；设备配有26台涡轮浮分子泵，13台机械泵以获得稳定的抽速和均匀的气体分布。

（1） 生产线采用大面积溅射沉积厚度均匀性控制装置，实现了均匀性可根据生产状态变化进行调整；
（2） 生产线可以同时实现多层介质膜和导电膜或金属膜的连续生产；
（3） 生产线可以采用压电阀闭路环控制工艺生产SiO2层；
（4） 生产线安采用了先进的插板阀进行腔室隔断，可以实现有效隔断，稳定工艺气体。国内仅我司具有设计和加工插板阀的能力，采用插板阀设计密封效果更好，更耐用；
（5） 生产线采用了均匀进气管结构设计，气流注入均匀平缓；
（6） 生产线采用了先进的磁导向传动系统，基片架传动平稳；
（7） 电气控制系统：触摸屏与 P C L 自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制。

（1) 极限真空压力：6× 1 0E-4 Pa
（2）平均生产周期：80－180 秒／架
（3）基片架尺寸：850mm× 1500mm（可以根据要求定做）
（4）膜层均匀性： ±3％

深圳新济达光电科技有限公司

    增加背光源的透射率、减少外界光线的反射；获得高的色彩对比度及外观色彩。广泛应用于液晶显示器、液晶电视、MP4、车载显示、手机显示、数码相机和掌声电脑等。