SIR7000FIB 光掩膜修补装置

产品型号：SIR7000FIB

产品特点：

1.修正精度从原来的15nm(3σ)提升到10nm(3σ)，采用新型的离子束光学系统，加之提高了离子束照射位置的稳定性，同时聚焦更好的离子束，可以对微小的缺陷的形状和细节进行观察。能够对观察到的缺陷真实的捕捉并修正。而且通过对样品室搭载了温调系统，减少温度的变化，从而降低因温度导致的漂移。　　2.从被用在半导体版面设计的EB图形数据中提取缺陷部分正常的模型，利用与缺陷部分对照，可以修复到近似正常的模型。在修复OPC等复杂形状的时候，能够还原最真实的形状。　　3.采用光刻掩模板用的SMIF搬动机构。利用SMIF Pod，能在高洁净度的搬运机构中搬运光刻掩模板，有效得保证了光刻掩模板的洁净度。

产品介绍： 利用聚焦离子束对半导体用遮掩板或者刻线上的缺陷部分进行修复的装置．可以对应65nm工艺的新世代Binary和Half tone mask上的微小缺陷以及复杂形状的缺陷进行高精度和低损伤的修复。 规格 型号 SIR7000FIB 对应掩模板尺寸 7.25英寸 离子源 Ga液体金属离子源 加速电压 30KV 修正精度 10nm（3σ） 观察、修正使用的图像 ·二次离子图像 ·二次电子图像 最小可以修正的线宽 260nm (140nm)