SIR5000 光掩膜修补装置

产品型号：SIR5000

产品特点：

1.采用新型的离子束光学系统，实现了离子束更细微化的聚焦。与现有的机型相比，实现了对更微小的缺陷部分的观察和修正。　　2.修正精度达到15nm（3Σ），可以做到高精度的修正。　　3.采用Windows?2000基本的操作系统，实现了新开发的GUI环境。　　4.增加了二次离子像，实现了对二次电子像的观察及修正。

产品介绍： 利用聚焦离子束对半导体用遮掩板或者刻线上的缺陷部分进行修复的装置。对Binary和Half tone mask上的微小缺陷以及复杂形状的缺陷进行高精度和低损伤的修复。 　　依据FIB，对用于半导体的光刻掩模板和网状结构上的缺陷进行修复、可以对Binary及Half Tone Mask等光刻掩模板上微小的缺陷和复杂形状的缺陷做到高精度、低损耗的修复。 规格 型号 SIR5000 对应遮掩模尺寸 7.25英寸 离子源 Ga液态金属离子源 加速电压 30kV 修正精度 15nm（3σ） 观察、修正使用的图像 ·二次离子像 ·二次电子像 最小可以修正的线宽 360nm