SMI3200 聚焦离子束装置

产品型号：SMI3200

产品特点：

1.标准装备预备样品室，能够把样品放置在不用大气环境的样品室。　　2.搭载200mm冲程5轴电动U-high倾斜平台。能够在200mmWafer的全部区域进行断面加工观察。因为没有Wafer破断的必要，所以能够进行和Wafer的电力特性测定并行的样品断面形状观察和配线变更。　　3.根据各种样品支架，可以对200mm的各种形状的样品进行测定。　　4.利用任意选择的各种自动加工软件，能够实现高精度高效率的TEM样品制作等。

产品介绍：

可以直接对应8英寸晶圆的聚角离子束系统。在拥有高清晰度的观察和快速加工等特点的同时，高精度的全自动加工软件,，实现了微纳米加工的无人化操作。

规格

样品尺寸 200mφ JEIDA规格Wafer 样品平台 5轴电动U-high倾斜平台 公共规格 集束离子电子束 加速电压 5～30kV（5kV step） 二维电子观察图像分辨率 4nm@30kV 电流密度 30A/c㎡ 标准选择 Micro-probing系统 连续完成TEM样品自动加工软件 4ch大量气体分配供给系统（MGS） 连续自动加工断面测量软件 异物检测设备联运软件、CAD航行保护系统等 ※其它SMI3000系列丰富的配备以供选择。