石英玻璃在半导体工业设备上，使用温度经常在1000℃至1300℃之高温状态，在此种状态下由于附著不纯物导致失透现象发生，失透之部分为石英之晶质化，晶质化之变态点为275℃，当石英玻璃自高温降至此变态温度时，表面失透之晶质化部分与石英玻璃本身高温之α相与低温之β相间膨胀系数不同在急速冷却下产生不透明之剥离状，更严重时会造成破裂现象产生。为使石英制品能使用更久，就必须注意防止造成石英失透产生的原因，而造成失透的污染源就属碱金属、碱土金属、汗水、口水、油污、尘埃……等等。且0.1mg/cm2
    
    就会造成数十倍或数百倍的失透量。 
    
    因此，防止这些污染源附著在石英表面上除了不直接用空手去拿石英外，使用在高温作业之前必先做清洗之工作以确保石英表面之洁净度。
    
    一般石英之洗净须要一些程序，首先用纯水先冲洗表面，再置入酸洗槽内浸泡一些时间，取出后再用纯水冲洗后晾干。