仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 安全钟罩:聚碳酸酯 基座: 110 mm直径 x 115mm高 重量:42公斤 靶:54 mm 直径 x 0.2mm 厚(铬作为标准靶材) 样品台:50mm直径,具有倾斜功能的旋转样品台 操作真空:1 x 10-2 mbar到 1 x 10-4 mbar 溅射电流:0-150mA 沉积速率:0-20nm/分 溅射定时: 0-4 分钟 涡轮分子泵:60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar) Services - Argon - Nominal 10 psi; Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr 电源:230伏/50Hz(包括泵电流为6安培)
● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细镀层(0.5nm Cr粒子) ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积(典型为5nm) ● 直径为165mm腔室 ● 可选双溅射头 ● 可接膜厚测控仪
K575X使用“涡轮”泵,前级为旋转机械泵,整个抽真空过程为自动控制。 真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。 本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。 溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。 溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。 K575D(双头)其它与K575X相同,只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时,不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。 注:K575D技术规格与K575X相同,但它有双头。K575X具有peltier制冷,对于比较厚的沉积,通常用K575D(双头)单元。 优点 ● 可溅射易氧化金属精细颗粒,如:铬(Cr)或铱(Ir) ● 应用范围广,除了可选溅射常用金属靶材如:金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外,还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO(氧化铟锡)靶等特殊靶材 ● 易操作 ● 无需水冷却 ● 超高分辨率,可复制涂层 ● 适应各种样品 ● 重复膜厚沉积 ● 样品容易装载和卸载 ● 不需要打开真空即可进行顺序涂层 ● 沉积厚度可预设
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