掺杂混合气

在半导体气体和集成电路制造中，将某些杂质掺入半导体材料内，使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率，以制造、PN结、埋层等。掺杂工艺所用的气体称为掺杂气体。主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氟化硼和一硼烷等。通常将掺杂源与运载气体（如氩气和氮气）在源柜中混合，混合后气流连续注入扩散炉内环绕晶片四周，在晶片表面沉淀上掺杂剂，进而与硅反应生成掺杂金属而徒动进入硅。

掺杂混合气

类型	组分气	稀释气	备注
硼化合物	乙硼烷、三氯化硼、溴化硼	氦、氩、氢	具有P形性质
磷化合物	磷烷、氯化磷、溴化磷	氮、氩、氢	具有N形性质
砷化合物	砷烷、三氢化砷	氦、氩、氢