化学气相沉淀(CVD)

用混合气(CVD)是利用挥发性化合物，通过气相化学反应沉淀某种单质或化合物的一种方法，即应用气相化学反应的一种成膜方法。依据成膜种类，使用的化学气相沉淀(CVD )气体也不相同。 化学气相沉淀混合气 膜的种类 混合气组成 生成方法 半导体膜 硅烷（SiH4）+氢 二氯二氢硅(SiH2Cl2)+氢 氯硅烷(SiCl4)+氢 硅烷（SiH4）+甲烷 CVD CVD CVD 离子注入CVD 绝缘膜 硅烷（SiH4）+氧 硅烷（SiH4）+氧+磷烷 硅烷（SiH4）+氧+磷烷+乙硼酸硅烷（SiH4）+氧化氩氮+磷烷 CVD CVD CVD 离子注入CVD 导体膜 六氟化钨+氢 六氟化钼+氢 CVD CVD