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电子束蒸渡机

价        格:面议   
产品型号: Peva-600E
有 效 期: 长期有效
所 在 地: 广东省深圳市
配送信息:
供应数量:不限
了解详情,请立即咨询!
 

   
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详细说明
应用

Peva-600E高精密Lift-Off电子束蒸镀系统乃是针对功率IC元件、砷化镓晶圆及次微米精密线宽要求的Lift-Off製程所设计的整批式量产设备,主要应用在Schottky、MMIC、Ohmic、Gate之金属化或ITO, SiO2制程,拥有独特的蒸镀反应室设计,可以提供更高的产能(增加150%),与更为、更可靠的制程需求。


   特点

AST聚昌科技Peva-600E系统的特点包括
(1) 因应功率IC(Ti/Ni/Ag)及ⅢⅤ族砷化镓晶圆各种Lift-Off制程需求(Ti、Au、Al、Ni、Cr、AuGe等),将Throw Distance拉高至>26~32吋
(2) Run to Run膜厚均匀性可控制至<±1%,以确保整体产品良率
(3) 化蒸镀腔及排气系统设计,可有效降低Cycle time,并提昇材料利用率(提高20%)
(4) 特殊设计的夹治具,针对薄片制程(<100微米),可靠度
(5) 全自动化、智慧型PC操控系统,提高全厂自动化之需求。

Peva-600E并可加装离子辅助镀膜(IAD)设备,进行低温制程,应用在Achromats、Fiber End Faces、Plastic Optics及MEMS wafers等精密镀膜,同时拥有可提昇至200mm大尺寸、次微米、均匀性±1%之Lift-Off制程能力、更有效的材料利用率、更高的产能与可靠度及整体地板空间使用率大幅缩减的种种优点。

   规格
Wafer Numbers / Sizes
(108 -15) pcs / (2"- 6")for Planetary Domes
E-Beam Power
From 6 ~10 kW (Option)
Ultimate Pressure
< 1E-7 Torr
Based Pressure
2E-6 Torr within 30 mins
Pumping System
Cryopump + Rotary Vane Pump or
Dry pump (Option)
Automatic Control System
Industrial HMI with Graphic User Interface or
Fully PC Interface Operation(Option)
Thickness/Rate and Process Control
RS-232 interfaced Real Time Controller including Sweeper, Indexer, Material, Tooling Factor, Soak, Ramp and Shutter.
Substrate Temperature Control
RT ~ 350℃
Non-Uniformity
5% for WIW, WTW and RTR
Power Requirement
AC220V, 3 phase, 60 Hz, 80A,
Dry N2 Requirement
1.2 kgw/cm2
CDA Requirement
5 kgw/cm2
Water Requirement
1.5 kgw/cm2, 20℃, 30 l/min
Dimension (WxDxH)
1100 x 1200 x 1800 (mm)
Weight
750 kgw
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