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SmCo薄膜的制备与性能研究
发布日期:2009-05-26

Studies on the Preparation and Properties of SmCo Thin Films

【英文题名】 Studies on the Preparation and Properties of SmCo Thin Films
【作者】 张玉龙;
【导师】 黄致新;
【学位授予单位】 华中师范大学;
【学科专业名称】 凝聚态物理
【学位年度】 2006
【论文级别】 硕士
【网络出版投稿人】 华中师范大学
【网络出版投稿时间】 2007-01-23
【关键词】 SmCo薄膜; 磁记录; 共溅射; 退火; 矫顽力;
【英文关键词】 SmCo film; magnetic recording; co-sputtering; annealing; coercivity;
【中文摘要】

在当今信息社会中,磁存储获得越来越广泛的应用。而且随着磁存储密度的不断提高,对于磁记录薄膜介质的结构和性能提出了越来越高的要求。由于室温下磁控溅射法制备的SmCo薄膜具有高的矫顽力、很好的单轴磁晶各向异性,使得它成为一种很具有开发潜力的高密度磁记录介质。 本文在总结了国内外有关SmCo系磁性薄膜材料研究的基础上,采用磁控溅射的方法制备了非晶态的SmCo磁性薄膜,研究了制膜工艺对SmCo薄膜结构、矫顽力的影响。首先用磁控共溅射方法制备了非晶态的SmCo/Cr磁性薄膜,并通过原位后退火处理研究了其磁学性能。结果表明,当Co靶溅射功率参数取220W,Sm靶功率取54W,样品薄膜中Sm的含量为17.28%时,溅射的薄膜成分非常接近于SmCo_5,在600℃下退火30分钟,SmCo/Cr薄膜样品的矫顽力升高,并且磁化取向有从面内转向垂直方向的趋势。 还采用磁控溅射法在玻璃基片上用复合靶制备了SmCo/Cu磁记录薄膜,并用振动样品磁强计(VSM)测量了薄膜的基本磁特性。研究发现SmCo磁性层的溅射工艺如溅射功率、溅射时间和溅射气压等对薄膜矫顽力的大小都有很大的影...

【英文摘要】 In the Information Technology era, magnetic recording has been widely used. And with the magnetic recording density continuously increasing, more and more requirements about media structure and property have been proposed for magnetic recording thin films. As the SmCo thin films, which prepared with rf-sputtering in room temperature, possess high coercivity and large uniaxis- crystal anisotropy, makes it as a good kind of high density magnetic recording media. Based on the summarizing of the inves...
【DOI】 CNKI:CDMD:2.2007.014009

 

 

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