CMP工艺怎么研磨蓝宝石衬底？需要搭配什么抛光液？蓝宝石抛光万能公式：粗抛、中抛、精抛，每道工序使用不同磨料的抛光液和抛光PAD：

①蓝宝石CMP粗磨：蓝宝石衬底粗磨可以选择硬度高切削力强的吉致金刚石研磨液，搭配金刚石磨盘，速率高效果好可有效去除蓝宝石表面的不平和划痕。

②蓝宝石CMP中抛：这一步可以用铜盘+小粒径的金刚石研磨液，用来去除粗抛留下的纹路，为镜面抛光做前期准备。

③蓝宝石CMP精抛：CMP精抛是蓝宝石衬底最后一道工序，需要用到抛光垫+纳米氧化硅抛光液来收光，呈现平坦无暇的镜面效果。

蓝宝石抛光要根据表面情况来选择不同规格粒径的抛光液，选对抛光液会让抛光效果加倍。

本文由无锡吉致电子科技原创，版权归无锡吉致电子科技，未经允许，不得转载，转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.com/

无锡吉致电子科技有限公司

联系电话：17706168670

邮编：214000

地址：江苏省无锡市新吴区行创四路19-2

此文关键字：蓝宝石抛光液 蓝宝石研磨液 蓝宝石窗口 光学玻璃抛光液 氧化硅抛光液 CMP抛光液