超纯水是一种用于半导体制作过程中的洗涤剂。那么，在半导体出产中运用超纯水会有什么影响呢?在用纳米超精密工艺处理半导体时，假如在各种工艺前后留下一个小颗粒，则会导致差错。因而，在各种工艺前后用超纯水清洗晶圆可以保证清洁度并进步半导体出产率(输出)。

跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 　　在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。

　半导体职业是一个高能耗的职业。在半导体产品制作过程中，由于出产设备的精密性和出产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对超纯水体系的运用要求更高。 　　在半导体制作工艺中，50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需求进行化学处理，而化学处理又与超纯水有关水中的杂质会进入硅片，如带入过量的杂质，就会导致器件功能下降、影响产品功能。因而，制备高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技能。