Applied iSYS根据制程舱内的情况控制真空泵和除害装置的运行。比如，应用于CVD装置时，在成膜时及清洁时运行真空泵和除害装置，其他时间使其处于备用状态。这样，可减少用电量及煤气用量等。应用于半导体工厂的全部CVD工序时，每年可削减真空泵和除害装置等的运行成本200万美元以上。
据应用材料公司介绍，大型半导体厂商已相继提出能源削减目标。在半导体工厂的能源消耗中，制造装置占45%，制造装置所附带的装置占42%，其余13%来自照明等。
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