真空箱式气氛炉

　　设备用途：

　　设备主要用于高温精密退火、微晶化陶瓷釉料制备、模具退火、粉末烧结、塑胶粉末实验，纳米材料、金属零部件在气氛保护下是退火热处理。广泛用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产

　　真空箱式气氛炉

　　气氛炉 产品描述

　　KRX系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

　　真空箱式气氛炉

　　设备用途：

　　设备主要用于高温精密退火、微晶化陶瓷釉料制备、模具退火、粉末烧结、塑胶粉末实验，纳米材料、金属零部件在气氛保护下是退火热处理。广泛用于高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产

　　真空箱式气氛炉

　　气氛炉 产品描述

　　KRX系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

　　产品名称

　　型号

　　规格

　　容积<L>

　　箱式气氛炉

　　温度范围

　　0-1700℃

　　KXRQ1700-20

　　200x100x100

　　2

　　KXRQ1700-30

　　300x200x200

　　12

　　KXRQ1700-30A

　　300x150x150

　　6.75

　　KXRQ1700-40

　　400x300x300

　　36

　　KXRQ1700-40A

　　400x300x200

　　24

　　KXRQ700-50

　　500x400x400

　　80

　　KXRQ1700-50A

　　500x300x300

　　45

　　KXRQ1700-60

　　600x400x400

　　96