热处理气氛炉

　　KRX1600系列气氛炉以1800型硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和40段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速对温控系统降温，气氛炉采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统，气体经过流量计后由后膛进出，有多处洗炉膛进气口、出气口处有燃烧嘴，可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院机构、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

　　热处理气氛炉

　　真空系统采用特种设计技术，具有操作安全、方便、真空度好，极限真空度可达20kPa，密封性好，真空保持时间长。该气氛炉可充入高压气体，气氛压力极限值0.1MPa，采用独特的密封技术，可长时间保压，安全性能好，操作方便。

　　热处理气氛炉

　　设备特点：

　　1、炉膛采用日本的节能技术，比传统电炉节能30℅以上；

　　2、炉体双层结构带风冷系统，外壳表面温度低；

　　3、加热丝分布炉膛3面对流加热，炉温均匀性高；

　　4、按钮机械采用国际品牌，使用次数不低于20万次；

　　5、微电脑智能控温技术，控温精度高；

　　6、超温报警并断电，漏电保护，操作安全可靠

　　热处理气氛炉

　　气氛炉 产品描述

　　KRX系列气氛炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验，还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型，额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃，根据不同的气氛，不同的温度，使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。

　　箱式气氛炉

　　温度范围

　　0-1600℃

　　0

　　KXRQ1600-20

　　200x100x100

　　2

　　KXRQ1600-30

　　300x200x200

　　12

　　KXRQ1600-30A

　　300x150x150

　　6.75

　　KXRQ1600-40

　　400x300x300

　　36

　　KXRQ1600-40A

　　400x300x200

　　24

　　KXRQ1600-50

　　500x400x400

　　80

　　KXRQ1600-50A

　　500x300x300

　　45

　　KXRQ1600-60

　　600x400x400

　　96

　　产品名称

　　型号

　　规格

　　容积<L>

　　销售价<万>元

　　箱式气氛炉

　　温度范围

　　0-1700℃

　　KXRQ1700-20

　　200x100x100

　　2

　　KXRQ1700-30

　　300x200x200

　　12

　　KXRQ1700-30A

　　300x150x150

　　6.75

　　KXRQ1700-40

　　400x300x300

　　36

　　KXRQ1700-40A

　　400x300x200

　　24

　　KXRQ1700-50

　　500x400x400

　　80

　　KXRQ1700-50A

　　500x300x300

　　45

　　KXRQ1700-60

　　600x400x400

　　96