紫外曝光机/光刻机

晶片工作台          

基底尺寸       可达8英寸    可达25英寸

转头       可达8英寸    可达25英寸

活动范围             

X    10mm    

Y     10mm   

Z     5mm      

Theta      4 degree       

对准精度       1um      

晶片掩膜间隙       自动挤入补偿      

振动保护       配备抗振平台      

Z的西塔轴运动    Motorizing 马达驱动   

真空系统       无油真空泵   

Mask stage

掩膜台          

掩膜夹取类型       真空*剪辑

相邻间隙       掩膜与晶片接触    间隙球

紫外光源             

紫外灯    1千瓦     可达8千瓦

均匀光束大小       8.25x8.25英寸      可达25x25英寸

曝光模式       压力/真空/相邻    

曝光时间控制       可编程的      

曝光定时器    1 ~ 999.9 秒       

显微镜          

型号       双变焦范围显微镜与CCD镜头 

监视器    LCD监视器  

视频模式       单一和剪辑型　   

放大倍数       80 ~ 500倍    1,000倍

聚焦方式       手动的    自动的（可视化软件）

目标间距       可调的   

 控制系统           

控制器    电脑或单片机控制      

掩膜(用户自定义)       

图案形状       用户自定义   

掩膜厚度(用户自定义)       

尺寸       可达9英寸掩膜    用户自定义

系统组件：

紫外光源构造

带托盘的晶片工作台

配CCD镜头的显微镜

监视器

掩膜夹具

紫外光源透镜

紫外光源镜片

紫外灯电源供应系统

操作控制器

防振平台

1KW紫外灯