MYCRO韩国制造的紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。

系统组件：

紫外光源构造

带托盘的晶片工作台

配CCD镜头的显微镜

监视器

掩膜夹具

紫外光源透镜

紫外光源镜片

紫外灯电源系统

操作控制器

350W紫外灯

参数：

晶片台          

基底尺寸       标准尺寸 至4英寸；可选至6英寸；

托盘       标准尺寸 至4英寸；可选至6英寸；

活动范围

X：10mm  Y： 10mm  Z ： 10mm  Theta：      4 degree

对准精度       1um

挤入补偿       Air bearing型

Z轴滑动 手动

真空泵    无油真空泵

掩膜台   

掩膜夹具类型       真空吸附和机械夹取

紫外光源     

紫外灯    350 瓦

均匀光束大小       4.25“ X 4.25“

曝光模式       压缩/真空/相邻

曝光时间控制       可编程控制型

曝光定时器    1 ~ 999.9 秒