HS型高硫镍电镀工艺
一、 特点
1、 HS高硫镍添加剂适用于防腐蚀性能要求高的多层镍电镀工艺
2、 HS型高硫镍电镀工艺将镍镀层的含硫量提高至0.1-0.2%
3、 通常将HS高硫镍镀层置于半光亮镍(低含硫)及光亮镍镀层间,使得镀层的电位差增加,防锈能力因而提高
二、 镀液组成及操作条件
组成及操作条件
范围
标准
硫酸镍
氯化镍
硼酸
HS高硫镍添加剂
润湿剂DB
温度
PH
电流密度
电镀时间
镀层厚度
搅拌
240-350克/升
60-110克/升
35-40克/升
3.5-7.5毫升/升
3-5毫升/升
48-55℃
2.0-3.0
2-4安培/平方分米
2-4分
0.8-1.3微米
建议机械搅拌
300克/升
90克/升
38克/升
5毫升/升
3毫升/升
50℃
2.5
3安培/平方分米
3分
1微米
机械搅拌
三、 配制镀液
1、注入2/3的水于预备槽,加温至65℃
2、加入所需的硫酸镍和氯化镍,搅拌使完全溶解
3、加入4%氢氧化钠溶液,调整PH至5.2
4、加入2毫升/升双氧水,加入前先以水稀释,搅拌数小时
5、加入2.5克/升的活性炭,搅拌数小时,静置8小时
6、将镀液滤入清洁的镀槽中
7、加入所需的硼酸,搅拌使完全溶解(可预先用热的水溶解好后)
8、用5-10%的稀硫酸调整PH至2.0-3.0
9、用瓦楞型阴极电解12小时(0-1-0.4安培/平方分米),至低位颜色变为浅灰色
10、加入所需的HS高硫镍添加剂,电解30分后开始试镀
四、设备
1、镀槽:钢板衬合适的塑料
2、温度控制:采用钛管或换热或电加热
3、过滤:循环过滤
五、添加剂的作用与维护
HS高硫镍添加剂:直接控制含硫量,采用空气搅拌会使添加剂由于与空气的过分接触而降低其浓度,建议消耗量为100-150毫升/千安培小时,大处理后,添加量为开缸量的1/2
六、操作细则
1、温度:较高的温度会增加HS的消耗量
2、PH:通常低的PH会使镀层含硫量提高,但对于锌压铸件,较高的PH可以减少对铸件的腐蚀,含硫量低可通过维持较高的HS含量来维护
3、电流密度:建议为3安培/平方分米。对于复杂零件可采用较高的电流密度和电镀时间。通常,低电流密度可获得较高的含硫量。
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