高纯氢气在电子工业的用处

在一些电子材料的生长与衬底的制备、氧化工艺、外延工艺中以及化学气相淀积(CVD)技术中，均要采用氢气作为反应气、还原气或保护气。半导体集成电路生产对气体纯度要求极高，高纯氢气价格，比如氧杂质的允许浓度为10-12等。微量杂质的“掺入”，焦作高纯氢气，将会改变半导体的表面特性，高纯氢气型号规格，甚至使产品成品率降低或造成废品。

在制造非晶体硅太阳能电池中，也需要用到纯度很高的氢气。非晶硅薄膜半导体是国际上近十年来研制成功的新材料，在太阳能转换和信息技术等方面已展示出了诱人的应用前景。

标准高纯氢气气体的配制方法主要有称量法、分压法、体积法、渗透法、饱和法、电解法、指数稀释法、流量比混合法等，从气体动力学的角度分为静态配气法和动态配气法。静态配气法是把一定量的气态或蒸气态的原料气体加入已知容积的容器中，再充入稀释气体，混匀制得。

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