干膜厚度测量仪测量聚合物薄膜和干膜在加热或制冷时薄膜厚度变化,因此又称为干膜测厚仪和干膜厚度测量仪.
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这款聚合物薄膜测厚仪用于测量polymer films（聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜）和 photoresist films （光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜）在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，我们特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度
glass transition temperature (Tg), ，热分解温度thermal degradation temperature (Td) ，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。Shanghai, Tianjin, Shenzhen, Hongkong ,covering business all of China
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干膜厚度测量仪在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。
干膜厚度测量仪能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，干膜厚度测量仪是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。
干膜测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。
干膜测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。
干膜测厚仪标准参数
可测膜厚： 5nm-150微米；
波长范围：200-1100nm
精度：0.5%
分辨率：0.02nm
测量点光斑大小：0.5mm
可测样品大小：10-100mm
计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；
尺寸：360x400x180mm
重量：13.5kg
电力要求：110/230VAC
干膜厚度测量仪应用
聚合物薄膜测量
光致抗蚀剂薄膜测量
化学和生物薄膜测量，传感测量
光电子薄膜结构测量
半导体薄膜厚度测量
在线测量
光学镀膜测量
聚合物薄膜厚度测量
polymer films测量
测量有机薄膜厚度
测量光致抗蚀剂薄膜
测光刻胶膜测厚
测量光刻薄膜厚度
测量光阻薄膜测厚
测量光阻膜厚度
聚合物薄膜测厚仪测量聚合物薄膜和干膜在加热或制冷时薄膜厚度变化,因此又称为干膜厚度测量仪.