VCF系列井式坩埚炉是由石英坩埚（或氧化铝陶瓷坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片，也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。

    特点：①顶部开启式

          ②360度环绕式加热、升温均匀

          ③真空或非真空可选

智能控温设备：

本公司选用的是厦门宇电公司的温控仪表708P，是国内目前比较常用的成熟型号，品质安全可靠。

◆ 主要特点：

① 采用先进的AI人工智能调节算法，无超调，具备自整定功能，可实现任意斜率的升﹑降温控制，具有跳转（循环）﹑运行﹑暂停及停止等可编程/可操作命令。

② 输入及输出采用数字校正系统，测量稳定，可扩展使用任意分度号的非线性传感器。

③ 二阶数字滤波功能及看门狗电路，在强干扰环境下也能保持的测量及稳定的工作。

④ 测量精度：工业0.2级

⑤ 报警功能：上限、输入开路。

⑥ 自动/手动无扰动切换，51段程序控制功能。

⑦ 掉电保护：由于采用了EPROM芯片，使得输入的各种数据在仪表断电及受到干扰时也能可靠保存。

⑧ 电源：85～264VAC  50～60Hz

⑨ 电源消耗：≤5W