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企业新闻
高纯度单晶体
发布日期:2009-07-27

高纯度单晶体

金属物理研究所晶体实验室应用在装置的比较空间确定高技术参数的个别环节的独特结构,设计并生产出无坩埚电子射线晶带熔炼装置。

技术参数:

工作真空 4.10 мм рт.ст.

电子束功率 10 кВт

阴极部件运动速度 1 - 70 мм/

晶体转动速度0 - 26 /

该装置可培养各种大规格、高纯度难熔金属单晶体。

单晶可用于固体物理、微电子和仪表制造的基本的和实用的研究中。

金属物理研究所接受难熔金属高纯度单晶体的生产订单(小批量)。


 

 

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