半导体组件，用于在化学机械抛光 (CMP) 设计的 Tecatron CMP 和

Tecapeek CMP 产品线，这些零件对力学性能和耐化学性的高性能塑料很高的要求。各种抛光用剂在 CMP 过程中，这种新的聚苯硫醚塑料Tecatron CMP 显示更高的耐磨损和磨损抗性比以前的产品。有关特定材料的抗化学药品和溶剂，这些摩擦学的好处增加塑料元件的寿命，在制造的过程减少了停机时间片成本。

    极端的机械载荷可以通过特殊的抛光使用发生。Tecapeek CMP的理想材料是在这些条件下。这种新的 Ensinger PEEK产品特点是韧性和尺寸稳定性的不的而且也很好的耐磨损和磨损抗性。配合高耐化学性，此优异的力学和摩擦学性能提供特别长的使用寿命。

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