光敏垫:又名光敏印章垫，属于印章材料之一。光敏垫是用于印章制作海绵垫。

　光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辅射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命，完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。光敏印章具有成像极其清晰，无需印泥，即印即干的特点。其印迹可与印刷品质媲美，是目前的、的印章产品，美观耐用，无须印台。（一次注油可印10000次以上）。，是目前替代原子渗透印章垫的换代品，市场前景广阔。之前我过市场上的产品主要从日本、美国进口，现在我公司已经成功开发出适合我过市场的产品，并一举实现清晰的成像效果，已经具备超越进口同类产品的品质！

制作时将光敏垫在光敏机中爆光，制作成印章垫，放入印油中浸泡渗透后，取出挤干印油，印章字迹清晰无比。一般质量指标，外观为深灰色，表面平整，手感光滑，孔径大小平均小于50wm，耐酸、碱、醇5级、渗油速度≤3小时，平面质量符合GA241.9—2000的要求。

规格：330*110*7mm