抛光粉：
不同粒径的氧化铝和碳化硅抛光粉
既有用于粗研磨的，也有用于精细抛光的
粗研磨用的抛光粉：
——碳化硅抛光粉
——氧化铝抛光粉
精细抛光用的抛光粉：
——MicroPolish 精细抛光粉适用于镁、铝及其合金
——MicroPolish II 精细抛光粉适用于大多数矿物和金属
粗磨用抛光粉：
| 产品描述 |
粒径 |
美标/欧标 |
产品编号 |
包装规格 |
|
碳化硅研磨粉，用蒸馏水混合，置于铸铁、锡、表面有织物的工作铝盘上 |
15μm |
600 （P1200） |
40-6415-600-080 |
2.3kg/桶 |
| 10μm |
1000 （P2000） |
40-6418-000-080 |
2.3kg/桶 |
|
氧化铝研磨粉，用蒸馏水混合，置于铸铁、锡、表面有织物的工作铝盘上 |
5μm |
— |
40-6605-050-080 |
2.3kg/桶 |
| 3μm |
— |
40-6603-030-080 |
2.3kg/桶 |
精抛用抛光粉：
|
产品描述 |
粒径 |
产品编号 |
| 0.45kg/桶 |
2.3kg/桶 |
|
MicroPolish 团聚的氧化铝粉末，比同粒径的其他氧化铝有更好的去除率，特别适用于镁、铅及其合金 |
1μm |
40-10079 |
40-10080 |
| 0.3μm |
40-10077 |
40-10078 |
| 0.05μm |
40-10075 |
40-10076 |
|
MicroPolish II，非团聚氧化铝粉末，比团聚的粉末具有更好的表面抛光效果，适用于大多数的矿物和金属的最终抛光 |
1μm |
40-6321-016 |
- |
| 0.3μm |
40-6323-016 |
40-6323-080 |
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