拉制一定型号和电阻率的单晶硅,要选用适当的掺杂剂 -
母合金。
拉制电阻率较高的硅单晶则采用母合金作掺杂剂。
采用“母合金”作为掺杂剂是为了使掺杂量容易控制、更准确。
什么是拉单晶掺杂剂 - 母合金?
■ 所谓“母合金”就是杂质元素与硅的合金,常用的母合金有硅磷和硅硼两种,杂质浓度是10的-2次方和10的-3次方。
为什么拉单晶需要掺杂剂 - 母合金?
■ 采用“母合金”作为掺杂剂是为了使掺杂量容易控制、更准确
■掺杂的目的主要是用来改变硅熔体中施主杂质(如磷)或受主杂质(如硼)的杂质浓度,使其生长出的单晶电阻率达到规定的要求
■ 硅单晶N型掺杂剂:五族元素,主要有磷、砷、锑
■ 硅单晶P型掺杂剂:三族元素,主要有硼、铝、镓
■ 拉制电阻率低的硅单晶,一般用纯元素作掺杂剂
■ 拉制电阻率高的硅单晶则采用母合金作为掺杂剂
影响掺杂的几个因素
■ 杂质的蒸发;无论液体或熔体在合适的温度下,溶剂和溶质总是要蒸发,特别是在真空下尤为显著,因此蒸发必定影响溶质在溶液的分布和溶液的杂质浓度,具体的公式非常复杂,我们需要知道的是杂质蒸发同蒸发表面积、杂质的蒸发速度常数、蒸发的时间几个要素有关。
■ 杂质的分凝效应;熔体的各部分的杂质浓度相同,若进行极其缓慢的所谓平衡冷却,这样固液两相内部杂质原子会通过扩散调整它们之间的浓度,实际上熔体不可能实现平衡冷却,总有一定的冷却速度,由于固相中杂质原子扩散速度很小,浓度调整缓慢,先凝固的与后凝固的固相杂质浓度不同,因此晶体中各处杂质浓度不再均匀分布,这种由于杂质偏析引起的分凝现象叫分凝效应。不同的杂质在熔硅中分凝系数是不同的,熔体结晶时杂质分凝效应使单晶中杂质分布不匀这是它的不利方面,但另一方面可利用杂质的分凝效应使杂质集中在单晶的头部或尾部,达到提纯的目的。
■ 拉制单晶过程中硼的滲入;由于石英坩埚的纯度远远小于多晶硅的纯度,在硅单晶拉制过程中石英坩埚P型杂质(主要是硼)不断溶入熔硅,改变熔硅的杂质浓度。
合能阳光提供母合金类型:
HSD-P3
碎块状
母合金P型-3次方
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0.0010-0.0090Ω.cm以下,碎块状,碳含量(atom/cm3)<5e16,氧含量(atom/cm3)<1e18,具体每段将详细标出,确保每段电阻率偏差在0.001或0.0005范围内
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HSD-P3整棒状
母合金 P型-3次方
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0.0010-0.0090Ω.cm以下,整棒状,碳含量(atom/cm3)<5e16,氧含量(atom/cm3)<1e18,具体每段将详细标出,确保每段电阻率偏差在0.001或0.0005范围内
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HSD-P3
片状
母合金 P型-3次方
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0.0010-0.0090Ω.cm以下,片状,碳含量(atom/cm3)<5e16,氧含量(atom/cm3)<1e18,具体每段将详细标出,确保每段电阻率偏差在0.001或0.0005范围内
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母合金掺杂的计算方法
■ 电阻率P的单晶,它的头部对应的的杂质浓度为C头,多晶硅原料的重量为W,母合金的杂质浓度为C母,应掺母合金重量为M
■ 应掺母合金重量为M =W*C头/(K*C母—C头),其中K为掺杂剂原素在硅中的平衡分凝系数