紫外线双面曝光机采用汞灯与LED混合光源系统，实现365nm/405nm双波段精准输出，光强均匀性达±2%。高刚性大理石基座配合气浮导轨，有效抑制振动干扰，定位精度≤1.5μm。双面CCD对位系统具备20μm/3σ的套准能力，通过红外预对准将换型时间缩短至90秒。智能光强反馈模块实时监测能量密度，波动控制在±3%以内，确保8英寸面板曝光线宽一致性±0.8μm。氮气环境控制系统维持氧含量＜50ppm，显著减少边缘曝光氧化问题。模块化灯箱设计支持离线维护，更换光源仅需15分钟。专利衍射光学元件实现70°大角度斜曝光，满足5G天线LDS工艺需求。设备集成MES接口，可追溯每片基板的曝光参数曲线，数据采样率达10Hz。经实际验证，在HDI板生产中实现12μm线宽/线距的稳定输出，良率提升至98.6%。未来通过引入AI曝光补偿算法，有望突破10μm工艺极限。