技术规格 仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 重量:18公斤 工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 安全钟罩:聚碳酸酯 靶：60mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面) 样品台直径为50mm，靶面距离40mm,具有倾斜装置的旋转台 真空范围:ATM-1x10-2 mbar 溅射电流:0-50mA 沉积速率:0-25nm/分 溅射定时: 0-4 分钟 预设置针阀:控制氩 电源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)
特点 ● 全自动控制 ● 低电压溅射 ● 高分辨率精细涂层 (金颗粒可达2 nm) ● 具有倾斜装置的特殊旋转台 ● 均匀厚度沉积 (扫描电镜一般厚度为20nm 或200埃) ● 165 mm(6英寸)腔室 优点 ● 易操作 ● 无需冷却样品台 ● 的再次涂层 ● 适合各种样品 ● 膜厚度重复性好 ● 容易装载或卸载样品 ● 可预设沉积厚度
K550X具有旋转样品台，它也可倾斜，非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得镀层及重复厚度沉积 更为方便。 磁电管靶使用低电压，可提高效率，K550X能得到非常精细的颗粒，由于是冷溅射，所以无需冷却靶面或样品台。 腔室直径为165 mm(6英寸)，非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶（或用户选择），提供最适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯，铂/钯和铂。 功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。 溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，一旦设置，它就不需要再调节。溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。
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