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高性价比等离子清洗去胶机

价        格:面议   
有 效 期: 长期有效
所 在 地: 黑龙江省哈尔滨市
配送信息:
供应数量:不限
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详细说明
 
主要特点:
1可用于300mm wafer 及更小的晶片
2根据工艺要求,可配备icp源或微波源及射频偏压在低温下去除难以剥离的光阻层,是同类产品无法比拟的。3清洗刻拙速率可达6um/min,损伤小。
4设备体积小,节省空间。
适用于研究机构的小规模生产.
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